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真空镀膜设备基础知识汇总 — 派旗纳米电子防护方案

一、真空镀膜系统主要构成 1.真空室  涂层设备主要有连续涂层生产线及单室涂层机两种形式,不锈钢材料制造、氩弧焊接、表面进行化学抛光处理,真空室组件上焊有各种规格的法兰接口。 2.真空获得部分在真空技术中,真空获得部分是重要组成部分。真空的获得不是一种真空设备和方法所能达到的,必须将几种泵联合使用,如机械泵、罗茨泵、分子泵系统等。

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等离子体加强化学气相沉积PECVD技术 — 派旗纳米电子防护方案

等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术是一种薄膜制备的新技术,据贤集网小编了解,其原理是借助微波或射频等使含有薄膜组成的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,非常容易发生反应,从而在基片上沉积出所期望的薄膜。为使化学反应在较低温度下进行,利用等离子体的活性来促进反应。等离子体增强化学气相沉积的制备工艺的设备组成原理图:  采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术制备薄膜材料时,薄膜的生长可分为以下过程:

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卤素环保检测 — 派旗纳米电子防护方案

卤素介绍: 卤素包括氟(F)氯 (Cl) 、溴(Br)碘(I)、砹(At)。其中砹(At)为放射性元素,产品中几乎不存在砹(At),氟(F)氯 (Cl) 、溴(Br)碘(I)四种元素在产品中特别是在聚合物材料中以有机化合物形式存在。 目前应用于产品中的卤素化合物主要为:阻燃剂: 多溴联苯(PBB) ,多溴二苯醚(PBDE),四溴双酚A(TBBPA),PCB ,六溴十二烷,三溴苯酚,短链氯化石蜡;PBB , PBDE , TBBPA 等溴化阻燃剂是目前使用

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等离子体加强化学气相沉积pecvd百科知识 — 派旗纳米电子防护方案

PECVDPECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) — 等离子体增强化学气相沉积法。PECVD:是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD).概念 PECVD (

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