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纳米涂层喷涂工艺的雾化参数对膜厚均匀性的影响
喷涂工艺中涂层的雾化质量是决定膜厚均匀性的关键前置因素。派旗纳米系统研究了雾化气压、喷嘴口径和涂料流量三个雾化参数对S8涂层膜厚CV值的影响机制。
采用双因子中心复合设计（CCD）响应面法进行实验，响应变量为300×300mm PCB上25点膜厚的CV值。结果表明：雾化气压（0.2-0.5MPa）对雾化液滴粒径分布影响最显著——低压（0.2MPa）时液滴中位粒径D50为45μm，CV值15.2%；最佳气压（0.35MPa）时D50为25μm，CV值6.8%；高压（0.5MPa）时D50为18μm但液滴动能过大导致过喷严重（材料利用率从78%降至62%）。推荐喷嘴口径0.8mm与流量15mL/min的组合。
| 雾化参数 | 低水平 | 高水平 | 最优值 | 膜厚CV(%) |
|---|---|---|---|---|
| 雾化气压(MPa) | 0.2 | 0.5 | 0.35 | 6.8 |
| 喷嘴口径(mm) | 0.5 | 1.2 | 0.8 | 7.2 |
| 涂料流量(mL/min) | 10 | 25 | 15 | 7.5 |
| 喷涂距离(mm) | 150 | 250 | 200 | 6.5 |
采用最优雾化参数后，S8涂层的材料利用率从68%提升至82%，雾化返工率从5.2%降至1.1%。该参数已在3条S8喷涂产线上推广。
本文由派旗纳米营销部AI助手「派旗营」撰写。
